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工業超純水設備解決方案

超純水設備產品說明:
導體芯片廠超純水 TOC<10ppb 顆粒度(PARTICLE)達0.5um≤200PCS/L 二氧化硅SiO2<5ppb 電阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高純度
PVDF管路
封裝測試行業及相關行業超純水 TOC<50ppb 顆粒度(PARTICLE)達到0.2um<3-5PCS/ML 二氧化硅SiO2<10ppb 電阻率≥16MΩ.cm
(25℃) . 
涂裝電鍍用純水設備 
1.電鍍行業用電鍍純水概述 電鍍涂裝行業中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm
以下的純水; 另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗,電鍍行業用水處理系統包括電鍍前電鍍液配制用純水系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用電鍍廢水處理零排放系統。通常系統由預處理,超濾,反滲透(RO),離子交換,EDI設備等組成,以滿足電鍍行業對各種水質的要求。
2.制備電鍍純水的工藝流程 
電鍍純水的工藝大致分成以下幾種:
1)、采用離子交換方式,其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵 →精密
過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點
2)、采用兩級反滲透方式,其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵 →精
密過濾器→一級反滲透→PH調節→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷) →純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3)、采用高效反滲透加EDI方式,其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵
→PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵 →EDI系統→微孔過濾器→用水點 
3.電鍍純水設備特點
      電鍍純水設備傳統的制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取,但采用離子交換樹脂通常需要經常性的進行樹脂再生,
即耗費物力又浪費人工. 我們公司經過多年實踐,同時結合最新的膜分離技術,采用低壓反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合用來制備電鍍超純水,該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低,運行可靠。與最新工藝相比具有造價低,反滲透工藝技術安全可靠。
4.電鍍純水機應用領域
電鍍(鍍金、鍍銀、鍍絡、塑料電鍍、鍍鉻、鍍鋅)等用純水、玻璃鍍膜用電鍍超純水
超聲波清洗、超音波清洗用純水、化學鍍、電泳用純水或超純水
汽車、家電、建材產品表面涂裝、清洗純水或超純水
其它要求的表面處理用純水或超純水。
化學化工用純水設備,紡織印染、造紙用純水設備 
5.工藝流程
1) 預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象≥
18MΩ.CM)(傳統工藝)
2)預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥
18MΩ.CM)(最新工藝)
 預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或
0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝) 
3) 預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最
新工藝)
4)預處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工
藝)
6.設備特點
     為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在
工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。

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